Напыление тонких пленок
Лазерное напыление тонких пленок различных материалов на подложках с соблюдением необходимых температурных и вакуумных режимов. Напылительная камера с вакуумом до 100мкПа, температурный диапазон от 20 до 1100оС. Компьютерное управление температурными и временными режимами постростового отжига.
Лазерная обработка материалов мощным наносекундным излучением с целью структурной модификации, очистки и т.д.
![Мощный импульсный лазер для вакуумного напыления тонких пленок](/images/lasers/powerful-pulsed-laser-for-vacuum-deposition-of-thin-films-1.jpg)
![Мощный импульсный лазер для вакуумного напыления тонких пленок](/images/lasers/powerful-pulsed-laser-for-vacuum-deposition-of-thin-films-2.jpg)
Мощный импульсный лазер для вакуумного напыления тонких пленок
![Образцы тонких пленок на диэлектрических подложках](/images/lasers/samples-of-thin-films-on-dielectric-substrates-1.jpg)
![Образцы тонких пленок на диэлектрических подложках](/images/lasers/samples-of-thin-films-on-dielectric-substrates-2.jpg)
Образцы тонких пленок на диэлектрических подложках