Напыление тонких пленок
Лазерное напыление тонких пленок различных материалов на подложках с соблюдением необходимых температурных и вакуумных режимов. Напылительная камера с вакуумом до 100мкПа, температурный диапазон от 20 до 1100оС. Компьютерное управление температурными и временными режимами постростового отжига.
Лазерная обработка материалов мощным наносекундным излучением с целью структурной модификации, очистки и т.д.
Мощный импульсный лазер для вакуумного напыления тонких пленок
Образцы тонких пленок на диэлектрических подложках